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      在實施陰極保護的結構物上，各部位保護電位的分布一般是不均勻的。只要最低保護電位和最高保護電位都落在有效保護范圍中，在陰極保護技術上就是可接受的。與犧牲陽極法陰極保護相比較，外加電流法陰極保護在結構物上所產生的電位分布不均勻性更為嚴重。

      陰極保護電流回路是：電流從電源設備的正極流出，經電纜流至輔助陽極，再從輔助陽極流出，經電解質流向被保護結構物表面各處，再從結構物流出，經電纜流回直流電源的負極。當在環(huán)境介質中或結構物上產生明顯的電壓降時，在結構物表面所產生的陰極保護電位分布就是不均勻的。

      以下這些因素傾向于加大保護電位分布的不均勻性：①輔助陽極與結構物之間的距離過�。虎谕寥阑蛩�的電阻率很高；③被保護結構物各組成部分之間存在高電阻，即電連續(xù)性較差；④被保護結構物各組成部分之間存在高電阻，即電連續(xù)性較差；結構物表面防腐層的質量不均勻。

      一般情況下，在輔助陽極附近的結構物表面，保護電位最負；而遠離輔助陽極的各處，保護電位相對不太負。這種電位分布狀況是不經濟的，因為對被保護結構物表面某些部位施予了多于其維持設計保護電位所需的電流。此外，電位過負造成的過保護也是一種有害因素，是不允許的。